立式真空气氛管式炉
立式真空气氛管式炉是一种专为高等院校、科研院所的实验室及工矿企业对特定材料进行处理的实验设备。它广泛应用于高、中、低温化学气相沉积（CVD）工艺，如碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
立式管式气氛炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺。
立式管式气氛炉是一种专为高等院校、科研院所的实验室及工矿企业对特定材料进行处理的实验设备。它广泛应用于高、中、低温化学气相沉积（CVD）工艺，如碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。这种设备的设计特点包括安全可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高、温区多，并且可选配多种气氛、抽真空炉型，以满足不同实验需求12。
具体到立式管式炉的型号，如KJ-T1200-V，这是一款流化床立式管式炉，专门针对粉末表面沉积的CVD实验。它采用高纯石英管作为炉管，内部嵌有一多孔石英板，孔径为0.2mm，粉末可放在多孔石英板上。气体从炉管下端通入，通过多孔石英板使样品颗粒悬浮在加热区域，进行沉积实验6。这种设备配置体现了立式管式气氛炉在CVD工艺中的应用特点和优势。
